组织处理仪 Histos 3

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Histos 3非常适于处理小到中尺寸的组织切片的组织实验室，其组织样本厚度易于控制在3mm之内。其在石蜡包埋步骤使用更高的温度(而不是Histos 5使用的真空步骤)来消除样本中残留痕量有机试剂。同Histos 3/5*多一次处理110个组织样本。Histos 5适于处理中到大尺寸的组织切片的组织实验室.专利的中间蒸发步骤把快速和均匀处理5mm组织厚度变为可能.其预设真空程序可低到100mbar.

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