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全自动MALDI靶板基质覆盖系统,可获得优越的样品重现性以及高质量的数据和图谱;独有的专利喷嘴技术确保稳定一致的基质喷射覆盖流程,是质谱成像技术的关键。
产品特点
1. 精密机械装置
X/Y轴步进马达精确定位,线性恒定速度平稳传输靶板
2. 稳定一致的基质喷雾
可控挥发过程,避免分析物的移位效应
高效率结晶,满足优越的质谱信号要求
3. 广泛基质选择
广泛选择不同基质溶剂,具备极大灵活性
4. 用户友好界面
5. 可调方法参数
技术参数
运行装置:固定靶板平台,移动式喷嘴
基质覆盖:以线性或曲线方式(不同偏离距离),
交替垂直的基质喷射路径确保均匀的覆盖
喷雾速度:50-1000 μl/min
气流温度:室温-150℃(±2℃)
气流速度:5-15.5 L/min
电源要求:120V,60Hz 或 220V,50Hz:2.5A
规格/重量:42×34×31cm,34kg